القاهرة - سامية سيد - كشف باحثون في معهد أوكيناوا للعلوم والتكنولوجيا، أنه يمكن لآلة الطباعة فوق البنفسجية القصوى (EUV)، أن تحدث طفرة في صناعة الهواتف الذكية، مما يؤدى نحو خفض أسعار الهواتف واستخدام طاقل أقل، نتيجة لتغيير في تصنيع الرقائق.

وتساعد آلة الطباعة فوق البنفسجية القصوى (EUV) في حفر أنماط أرق من شعر الإنسان على رقاقة السيليكون التي تم بناء الشريحة عليها، وتنتج هذه الآلات شركة واحدة فقط، وهي شركة ASML الهولندية، وتتوفر بالفعل آلات EUV من الجيل الثاني، التي تبلغ تكلفتها  400 مليون دولار باسم High-NA، وهي
ويسهم هذا الجيل من الأشعة فوق البنفسجية في خفض تكاليف بناء هذه المكونات وربما تساعد هذه التكاليف المنخفضة في خفض أسعار الهواتف الذكية، وطبقا لما صدر عن معهد أوكيناوا للعلوم والتكنولوجيا (OIST) عن بعض هذه الابتكارات، فقد تسهم  في  عدد المرايا العاكسة إلى أربعة من ما يصل إلى 10.

ويستخدم التصميم المبتكر منخفض التكلفة، 10٪ فقط من الطاقة اللازمة لتشغيل آلات EUV التقليدية.

وتستخدم آلة EUV الجديدة نظام إسقاط بصري يتطلب استخدام مرآتين فقط، بحيث يسمح الابتكار الثاني بتوجيه الضوء من EUV إلى أنماط منطقية على مرآة مسطحة دون حجب مسار الضوء.

وأكد الباحثون أن هذا الاختراع هو تقنية رائدة يمكنها حل هذه المشاكل غير المعروفة تقريبًا بالكامل، نظرًا لأن أشعة EUV لها أطوال موجية قصيرة للغاية، فلا يمكنها المرور عبر العدسات الشفافة، بدلاً من ذلك، في آلات EUV، يتم توجيه الضوء باستخدام مرايا على شكل هلال توجه الضوء في نمط متعرج، نظرًا لأن الضوء ينحرف عن المحور المركزي، فإنه يقلل من الأداء العام للآلة.

في حين تستخدم آلات EUV التقليدية أكثر من 1 ميجاوات من الطاقة وتبلغ تكاليف رأس المال فيها أكثر من 200 مليون دولار، تستخدم الآلات المبتكرة منخفضة التكلفة أقل من 100 كيلووات من الطاقة، وتكاليف رأس المال أقل من 100 مليون دولار،بالإضافة إلى ذلك، تتطلب آلات EUV النموذجية مصدر ضوء يزيد عن 200 وات بينما تتطلب الوحدة منخفضة التكلفة مصدر ضوء بقوة 20 وات.

كما يمكن أن يمنع تقليل عدد المرايا من 10 إلى أربعة الآلة من فقدان الكثير من الطاقة، حيث تضعف طاقة EUV بنسبة 40٪ مع كل ارتداد للضوء من مرآة عاكسة.ويؤكد الباحثون،  أنه من خلال الحد من عدد المرايا المستخدمة إلى أربعة من مصدر EUV إلى الرقاقة، يمر أكثر من 10٪ من الطاقة، مما يعني أن حتى مصدر EUV الصغير مع خرج بضع عشرات من الواط يمكن أن يعمل بنفس الفعالية، كما  يمكن أن يؤدي هذا إلى انخفاض كبير في استخدام الطاقة، مع طريقة الإسقاط الجديدة ذات المرآتين التي تحل محل الست المستخدمة للإسقاط باستخدام EUV التقليدي، يتم إهدار طاقة أقل.

وتقدمت OIST بطلب براءة اختراع لجهاز EUV، مما  يجعلنا نتساءل عما إذا كانت القيود التي تمنع المصانع الصينية من الحصول على آلات EUV ستظل سارية إذا تم منح براءة الاختراع، حيث  يبدو أن الوصول إلى مثل هذه الآلة هو السبب الرئيسي وراء عدم تمكن  بعض الشركات الصينية من الحصول على معالجات التطبيقات لهواتفها المبنية باستخدام عقدة أقل من 7 نانومتر.